계측
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解放军의계측시스템은디자인제작성,신규공정특성화및양산공정모니터링의검증을포함한다양한칩및기판제조애플리케이션을담당합니다。칩제조업체들은패턴치수,박막두께,층간정렬,패턴분류,표면과전자광학특성의정확한측정을제공하는解放军의계측시스템종합세트를통해개선된소자성능과수율을목적으로공정을빈틈없이관리할수있습니다。
Archer™
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오버레이계측시스템
ARCHER™750오버레이계측시스템은첨단메모리및소자의안정인인빠르게하는하는에맞추기위한상의상의오버레에에합니다10nm해상도까지조절가능한파장을통해생산변동이존재하는곳에서도정확도견고한이오류오류값을제공합니다합니다。주로산란계측기반의시스템만가능능했던수준을가진archer 750이미징기반오버레이시스템시스템은인라인모니터링을고처리량및고차스캐너교정을확대된샘플링지원지원지원을샘플링을지원합니다합니다확대샘플링샘플링을지원합니다지원샘플링샘플링을지원합니다지원샘플링을지원지원지원지원지원지원지원지원지원을을지원지원첨단알고리즘과신규raim™오버레이타겟설계를활용하여타겟소자에에에에에에사진식각이소자소자이성능을정확하게추적하도록합니다합니다지원지원지원지원지원
애플리케이션
제품상의오버레이제어,인인라인,스캐너스캐너,패터닝패터닝관련제품
阿切尔700:≤7海里로직및첨단메모리설계노드의정확하고견고한공정오버레이오류측정을위한조정가능한광원을탑재한이미징기반오버레이계측시스템
Archer 600:≤10 nm로직소자및첨단메모리를위한이미징기반오버레이계측시스템
阿切尔500 lcm:2xnm / 1xnm설계노드내다양한한층위한듀얼이미징산란산란계측오버레오버레이계측계측
弓箭手500:2 xnm / 1 xnm설계노드를위한이미징기반오버레이계측시스템
atl:이계측오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레오버레계측
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오버레이계측시스템
ATL100™(고정밀가변레이저)산란계측방식기반의오버레이계측시스템은≤7海里디자인노드에서양산및개발을위한오버레이제어를제공합니다。1纳米해상도를归航™과결합한가변레이저기술은생산공정변화속에서높은오버레이정확도를유지합니다。ATL100은인다이및소형피치등의다양한산란계측방식오버레이측정타겟설계를지원함으로써상이한공정층,소자유형,디자인노드와패터닝기술에대한정확한오버레이오류측정을가능하게합니다。
애플리케이션
제품상의오버레이제어,인라인모니터링,스캐너인증,패터닝제어,인다이계측관련제품
弓箭手:≤1 xnm디자인노드에서양산및개발을위한고정밀오버레이측정을제공하는이미징기반오버레이계측시스템
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광학임계치수(CD)및형상계측시스템
Spectashape™11k차원계측시스템은finfet의3d형상및임계치수(cd),수직수직nand및dram구조와첨단설계내집적회로기타형상형상모니터링하고완전히화형상위해하고완전히특성하기사용용광학기술과특허를출원한알고리즘활용하는spectrashape 11k는다양한공정층에걸친주요변수변수변수변수변수변수변수변수변수소자소자변수변수게게게리세스,측면각,감광재높이,하드마스크마스크이,피치워킹)의섬세한차이를를합니다。개선된이지와스테리량리량을가능케하는신규측정모듈사용spectashape 11k는인라인에서공정문제신속파악하여fab내개선을가속화안정적인을을하도록적적생산을달성지원합니다。
애플리케이션
인라인공정모니터,패터닝제어,공정윈도우확대,공정윈도우제어,첨단공정제어(APC),엔지니어링분석관련제품
Acushape.®:spectrashape시스템의신호를해석견고하고사용가능한3d형상모델을만드는가속화화하는하는첨단모델링
Spectarkape 10k:1 xnm로직및첨단메모IC소리자를위한복잡한형상의측정을지원하는광학CD및형상계측시스템。
Spectarkape 9000:20 nm이하설계노드에서IC소자를위한복잡한형상의측정을지원하는광학CD및형상계측시스템。
Spectarkape 8810/8660:32nm이하설계노드에서ic소자소자를위한주요구조적의공정모니터링을을지원하는의공정모니터링을지원하는광학형상형상계측계측형상의형상계측계측
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박막계측시스템
Spectrafilm™F1박막계측시스템은다양박막층에대한얇은박막측정을제공하여하여하하을제공하여디자인하하및첨단디자인디자인노드에서엄한공정허용오차를달성달성에서하며제공하며e-e-test를실행하기대한인전에성능대한대한인전에대한대한사이트성능대한대한주트합니다대한대한대한전트대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한대한〗신규fog™(光栅上的电影)알고리즘알고리즘소자와같은이팅구조구조에대한박막측정을간하게하여측정값과소자의상관상관관계를증대처리량이높아지면서spectrafilm f1의생산성이증가하며첨단소자제조기법과관련된많은수의층층지원지원지원지원지원지원지원
애플리케이션
밴드밴드갭,엔지니어링엔지니어링,인라인공정,툴툴,공정툴매칭관련제품
Spectrafilm LD10: SpectraFilm™LD10박막계측시스템은16 nm디자인노드와향후노드에서의다양한박막층과관련된응력,굴절율및얇고두꺼운박막의두께에대한높은정밀도와신뢰도의측정값을제공합니다。
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문의Aleris®
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박막계측시스템
Aleris®박막계측시스템은32 nm및향후노드에서박막두께,굴절률,응력및조성에대한정확하고신뢰도높은측정값을제공합니다。광대역분광엘립소메트리(BBSE)기술을활용하는Aleris박막계측시스템은종합적인박막두께측정및계측솔루션을수립하여外事局이다양한박막층을모니터링하고인증할수있도록지원합니다。
Aleris 8330
ALERIS 8330박막박막시스템은금속간,감광재,하층하층사방지코팅,산화산화및질화후막과후공정층을포함중대한영향을미치지않는않는낮은소유을솔루션솔루션박막을소유비용솔루션
Aleris 8350
8350年Aleris은중대한영향을미치는박막상의응력측정및굴절율과두께에필요한엄격한공정허용오차를충족하는고성능박막계측시스템입니다。Aleris 8350박막두께측정시스템은초박막확산층,초박막게이트산화물,첨단감광재,193 nm弧층,초박막다층스택및CVD층을포함한광범위한주요박막을위한첨단박막개발,특성화및공정제어에사용됩니다。
Aleris 8510.
ALERIS 8510는高k금속금속이트(hkmg)및초박막분리식플라즈마질화(dpn)공정공정에aleris시리즈의박막두측정,조성및응력측정측정을확장。개선된150nm광대역타원타원분광분광분석분석기술을하는하는하는하는하는하는하는하는은및및양및박막측정을포함한게게부터까지한게게게폴리의모든게층층및모든의인및개발개발필요한박막계측데개발개발엔지니어들에게제공합니다。
애플리케이션
엔지니어링분석,인라인공정모니터,툴모니터,공정툴매칭상세한상세한제품상담을을원하시나?
문의™倍增
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패턴웨이퍼기하형상(倍增)계측시스템
PWG.™패턴드웨이퍼계측플랫폼은첨단3 d NAND, DRAM,로직제조업체를위하여종합적인웨이퍼편평도및양면나노지형데이터를생산합니다。PWG5™는고해상도및고밀도샘플링통해에이유발한웨이퍼형상,아이퍼형상이유발한패턴이에러,아이퍼퍼두께의,아이퍼전면전면및후면지형측정측정측정측정측정측정측정측정업계최고의동적범위를자랑하는PWG5는첨단3D NAND소자의96개이상의적층가공에사용되는증착공정으로인한웨이퍼휘어짐과응력에대한인라인모니터링과제어를지원합니다。PWG5는공정이유발한웨이퍼형상편차를그근원으로부터알아낼수있으므로,웨이퍼의재작업,프로세스설비의재교정,또는스캐너에측정결과를제공하기위한KLA의5D分析仪®데이터분석분석시스템과의통합을통해제품opo(产品覆盖上)를개선하고전체적인소자을향상시킬수있습니다。
애플리케이션
프로세스공정모니터링,인라인모니터링,리소그래피오버레이제어관련제품
PWG3.™: 2 x / 1 xnm디자인노드에서다양한종류의메모리및로직소자를위한모든생산공정의인라인모니터링을지원하는3세대패턴웨이퍼기하형상측정시스템
PWG2.™:2xnm디자인디자인노드에서다양한종류의메모리및로직소자를위한모든생산공정의의인을지원하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는하는패턴웨웨웨웨웨웨웨웨웨
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문의circl™
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전체표면웨이퍼결함검사,계측및리뷰클러스터시스템
CIRCL™클러스터툴은효율적인공정제어를위한높은처리량수준에서병렬데이터수집을제공하며모든웨이퍼표면을다루는4개의모듈을보유합니다。최신세대CIRCL5로이뤄진모듈은다음사항을포함합니다:전면웨이퍼결함검사기;웨이퍼엣지결함검사프로파일,계측및리뷰;후면웨이퍼결함검사및리뷰;전면결함의광학리뷰및분류。한개의측정값에대한결과를사용하여클러스터내다른유형의측정값을유도하는혁신적인접근법인DirectedSampling™을통해데이터수집을제어합니다。CIRCL5모듈구성은다양한공정제어니즈에대한유연성을제공하고전체外事局공간을절약하며外事局의자본투자를절감하는비용효율적인업그레이드경로를제공합니다。