- 对拥有检测,流量和视检系统的数码分类分析一体化
- 自动对光罩检测系统的缺陷检测结果进行分类
- 模拟光罩检测系统检出检出缺陷在晶圆上的成的
- 分享到并光罩重复的检测检测的检测检测检测的
- 基于对缺陷空间影像的全面分析,预测晶圆上的曝光性
- 基于光环的扫描电子杂志自动分类
- 为LMS IRPO对销量测机关在euv光光的使用中间必要必要目标目标准点周边有效的幂测点
- 为确保光罩检测最缺陷缺陷提供提供优化193米米检测光学
- 为单晶粒芯片中间精灵,提供光罩缺陷修复后的电子束目标图
- 通用因素,为缺陷修复目标的重复图。
KLA的数学分类系统集中间收集并并检测,流量和工艺系统中间生成的数据。我们全方位的数据分类产品系列采用品的数码分类,建模和可调功能,支持运行时的工人控制,缺陷偏移识别,晶圆和光罩,扫描仪和工艺艺正以及缺陷分享等等用。通讯为之芯片和晶圆制造商品,我们的数码介绍和分享到可加油并降低批载生产的风筝。
RDC(光罩决策中心)综合数据分析和管理系统支持多种解放军用于光罩认证的光罩检测和量测平台。RDC能够支持很多应用,从而协助自动化缺陷处置决策,缩短周期时间,并减少可能影响良率的光罩相关的图案化错误。除了可以提供关键应用以外,因为RDC采用了高度可靠灵活的服务器配置,所以也可以作为中央数据管理系统。
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