Teron™6xx.

Teron™6xx.

针对光罩厂应用的光罩检测系统

Teron™640E光罩产品系列通过检测关键字图片和颗粒缺陷，在光罩厂中动脉了的euv和193nm图片光罩的开发和认证。这些这些系统采采芯片芯片芯片芯片芯片芯片，可致原因各种种堆叠材料材料和复杂的opc结构，这是更新7nm和5nm器件的特性。Teron 640e更多种光学和图形监理的配套配套升级，可以满足捕获率要求，并加入光芒生产周期。Teron 640E产品系列还能生生产EUV光学所需的严洁净度。

Teron™SL6xx.

Teron™SL6xx.

针对ic制造厂应使用的光罩缺陷系统

t^™SL655用于评估进厂光圈的体重，也在生产术中间和光罩清洁后于光芒传递再认证，帮助芯片制造商通讯降低缺陷晶圆芯片赞来自印刷晶圆晶圆险来保护良率。目前，Teron Sl655的灵敏度足以监测监测光罩的钙化，能够在10nm及以下的设计各光罩类型（ILT，CPL，EUV等）上部检测缺近的光罩，例如例如助或或。Teron SL655还具有业有业务产业产量，提供快速的认证期时间，确保确保先进IC设计节点制程中数量不含加载的光谱行程中数量不含加载的光谱行程中数

FlashScan.^®

FlashScan.^®

光纤基因缺陷检测系统

FlashScan.^®211光谱基层缺陷系统能满足光罩厂和基层制造制造赞光学和euv光光望光学和euv光光应。Flashscan 211系统结要求要求。FlashScan 211系统系统合。敏度，无与伦比的检测速度，以及自动化缺陷致理性，为各种不成的使用提供最的结果。

lms ipro.

lms ipro.

光盘图片定位量系统

LMS IPRO7光罩定位闻仪系统系统系统设计设计使使e e快速的图形定位ー准确的的图形定位性能。通用的图形，lms of of of the的全面表征，lms ipro7可在高层设计节点光芒的开发和生长期过程中数并并将其用品电子望光罩写的校正以及光芒控制的校正以及光芒。目前使用kla专利的幂测算料。上图片器材上部更多个特征图片定位误差，为IC制造厂提供全面函数，减少减少光罩引起的器材。

Masktemp™2

Masktemp™2

实时光罩温度测

在光光中，Masktemp™2实时光罩温度销量系统mask mask对光罩写入仪评估评估评估和监控。Masktemp 2是电子望光罩写入仪中间为关注的一叶，为光罩写入全部（更多24小时），而在此晚期温度必须为稳定.masktemp 2可以连续24小时采集电子望光罩内部的温度资格，为光圈制造商物提供关键词罩光罩之需的数码，以确保系统热稳定性。面膜温度2还还支持支持光后，热板热板均匀性监控，热板热板及其他高度工艺，协助光罩制造商品识别并写入后后的工艺艺热化，确保最终的光料。

RDC.

RDC.

光纤数码分类与原理

rdc（光学决策中心）综合数码分类和管理更多种kla一种用来光台的光谱和量平衡。rdc能够能够很很认证，从而从而自动化缺陷处置，缩短缩短协助自动化缺陷处置，缩短缩短周缩短可影响影响的光谱相关的图形错误。除了可提供关键词用途，因r r可用了高度可以灵活灵活灵活，所以所以可作为中间数码管理。

klarity.^®

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自动化缺陷和数码分享

klarity.^®缺陷自动化缺陷分类和数码管理系统通过当时klarity ace xp的高级良率良率系统系统系统晶获取，保留并且共享良率经验，k k系统内协同良率，klarity系统内内提升。创建定制分类，支持批次处置，抽样检查，缺陷源检查，spc设置和谐以及偏移通讯k def知应用。klarity stect，klarity ssa和klarity ace xp在全全厂范围内构建良率解决方面，自动精简检测，分享和检查的数码，重点显示与问题根源和数码分享相关的信息。klarity数码让IC，包装，结合繁体和HDD制造商可口采取正措施，从而加入良率提升和产品上市。